A mechanistic molecular-scale simulation model of pattern formation in photoresist layers for extreme ultraviolet nanolithography
L. Fernandez Miguez
A mechanistic molecular-scale simulation model of pattern formation in photoresist layers for extreme ultraviolet nanolithography
In het kort
ISBN-13
9789038663777
Verschenen
26 mei 2025
Bibliografisch
Uitgave
Vorm & inhoud
ProductvormPaperback BC
SamenstellingLos product
Classificatie
NUR (hoofd)Natuurkunde algemeen 924
NUR (alle)924 Natuurkunde algemeen
Medewerkers
Auteur A01L. Fernandez Miguez
Herkomst
Werk-id (NSTC)501626360
MeldingBevestigd bij publicatie 03
Bijgewerkt6 augustus 2026
Lijkt op dit boek

Relatividade ρ – A Densidade de Energia como elemento unificador do Universo

Relatividade ρ

Relativity ρ - Energy Link of the Universe

De Reis naar de Kiemen van de Tijd

natuurkunde 3 VWO

3 havo

Patronen van creativiteit

Sputtering onions

We see Space through the lens of our Clock. Observer-dependent Space observations.

To the frontier of knowledge
NSTC 501626360 · CB-relatie 8180218 · Bijgewerkt 6 augustus 2026