Atomic layer deposition: nucleation and growth behavior of HfO2 dielectrics on semiconductor surfaces
L. Nyns
Atomic layer deposition: nucleation and growth behavior of HfO2 dielectrics on semiconductor surfaces nucleation and growth behavior of HfO2 dielectrics on semiconductor surfaces
Paperback190 pagina’sEngels
In het kort
ISBN-13
9789086492657
Verschenen
2 juni 2009
Bibliografisch
ISBN-139789086492657
Editie1
TaalEngels eng
Pagina’s190
GeïllustreerdJa
Uitgave
Vorm & inhoud
ProductvormPaperback BC
SamenstellingLos product
Classificatie
NUR (hoofd)Scheikunde algemeen 913
NUR (alle)913 Scheikunde algemeen
Medewerkers
Auteur A01L. Nyns
Herkomst
MeldingBevestigd bij publicatie 03
Bijgewerkt6 augustus 2026
Lijkt op dit boek
CB-relatie 9359143 · Bijgewerkt 6 augustus 2026









