Atomistic simulation of Cu/Ta thin film deposition and other phenomena
P. Klaver
Atomistic simulation of Cu/Ta thin film deposition and other phenomena
Paperback94 pagina’sEngels
In het kort
Bibliografisch
ISBN-139789040725265
Editie1
TaalEngels eng
Pagina’s94
GeïllustreerdJa
Uitgave
Vorm & inhoud
ProductvormPaperback BC
SamenstellingLos product
Classificatie
NUR (hoofd)Technische wetenschappen algemeen 950
NUR (alle)950 Technische wetenschappen algemeen
Medewerkers
Auteur A01P. Klaver
Herkomst
Werk-id (NSTC)500866039
MeldingBevestigd bij publicatie 03
Bijgewerkt6 augustus 2026
Lijkt op dit boek
Gastechnicus
Ontmanteling van een kerncentrale
Waterstof en de verliezen onderweg
Luchtverkeersleiding in gewone taal
Wissels, seinen en de dienstregeling
Teruglevering en negatieve prijzen
Desalination: Drinking the Sea
Brandwerendheid: hoe een gebouw tijd koopt
Tunnelboren onder een bewoonde stad
Chipfabricage van zand tot processor
NSTC 500866039 · CB-relatie 7700259 · Bijgewerkt 6 augustus 2026