ECR plasma deposited SiO-2 and Si-3N-4 layers
G. Isai
ECR plasma deposited SiO-2 and Si-3N-4 layers a room temperature technology
PaperbackEngels
In het kort
ISBN-13
9789036519342
Uitgever
Bibliografisch
ISBN-139789036519342
Editie1
TaalEngels eng
GeïllustreerdJa
Uitgave
Vorm & inhoud
ProductvormPaperback BC
SamenstellingLos product
Classificatie
Medewerkers
Auteur A01G. Isai
Herkomst
Werk-id (NSTC)500850336
MeldingBevestigd bij publicatie 03
Bijgewerkt6 augustus 2026
Lijkt op dit boek
NSTC 500850336 · CB-relatie 8186142 · Bijgewerkt 6 augustus 2026









