Plasma-enhanced chemical vapor deposition of silicon dioxide
A. Boogaard
Plasma-enhanced chemical vapor deposition of silicon dioxide optimiaing dielectric films through plasma characterization
PaperbackEngels
In het kort
ISBN-13
9789036531306
Uitgever
Verschenen
12 januari 2011
Bibliografisch
ISBN-139789036531306
Editie1
TaalEngels eng
GeïllustreerdNee
Uitgave
UitgeverUniversiteit Twente Bibliotheek
CB-relatie-id8186142
Verschenen12 januari 2011
StatusOnbekend 00
Vorm & inhoud
ProductvormPaperback BC
SamenstellingLos product
Classificatie
Medewerkers
Auteur A01A. Boogaard
Herkomst
Werk-id (NSTC)500548845
MeldingBevestigd bij publicatie 03
Bijgewerkt6 augustus 2026
Lijkt op dit boek
NSTC 500548845 · CB-relatie 8186142 · Bijgewerkt 6 augustus 2026