Resist and Exposure Processes for Sub-10-nm Electron and Ion Beam Lithography
V.A. Sidorkin
Resist and Exposure Processes for Sub-10-nm Electron and Ion Beam Lithography
In het kort
ISBN-13
9789085930785
Uitgever
Verschenen
6 juli 2010
Bibliografisch
ISBN-139789085930785
SerieCasimir PhD-series — deel 2010-15
Editie1
TaalEngels eng
Pagina’s114
GeïllustreerdJa
Uitgave
Vorm & inhoud
ProductvormPaperback BC
SamenstellingLos product
Classificatie
NUR (hoofd)Experimentele natuurkunde 926
NUR (alle)926 Experimentele natuurkunde
Medewerkers
Auteur A01V.A. Sidorkin
Herkomst
Werk-id (NSTC)500553354
MeldingBevestigd bij publicatie 03
Bijgewerkt6 augustus 2026
Lijkt op dit boek
Gedachte-experimenten in de natuurkunde
The Elementary Process Theory
Integrated Super Resolution Fluorescence Microscopy and Transmission Electron Microscopy
The color of X-rays
Gravitation by very small C particles
Keteninformatisering in kort bestek
Handboek publieke verantwoording
CO2: een geschenk uit de hemel
NSTC 500553354 · CB-relatie 9953527 · Bijgewerkt 6 augustus 2026