Sub-10 nm resolution Electron Beam Lithography in ultrathin HSQ resist layers
A.E. Grigorescu
Sub-10 nm resolution Electron Beam Lithography in ultrathin HSQ resist layers
Paperback224 pagina’sEngels
In het kort
ISBN-13
9789090247915
Uitgever
Verschenen
21 oktober 2009
Bibliografisch
ISBN-139789090247915
Editie1
TaalEngels eng
Pagina’s224
GeïllustreerdJa
Uitgave
Vorm & inhoud
ProductvormPaperback BC
SamenstellingLos product
Classificatie
NUR (hoofd)Technische wetenschappen algemeen 950
NUR (alle)950 Technische wetenschappen algemeen
Medewerkers
Auteur A01A.E. Grigorescu
Herkomst
Werk-id (NSTC)500569694
MeldingBevestigd bij publicatie 03
Bijgewerkt6 augustus 2026
Lijkt op dit boek
Gastechnicus
Ontmanteling van een kerncentrale
Waterstof en de verliezen onderweg
Luchtverkeersleiding in gewone taal
Wissels, seinen en de dienstregeling
Teruglevering en negatieve prijzen
Desalination: Drinking the Sea
Brandwerendheid: hoe een gebouw tijd koopt
Tunnelboren onder een bewoonde stad
Chipfabricage van zand tot processor
NSTC 500569694 · CB-relatie 7219379 · Bijgewerkt 6 augustus 2026